Implantación iónica en InP para aplicaciones en dispositivos
La presente tesis muestra en primer lugar los sistemas de control diseñados y desarrollados para conseguir el perfecto funcionamiento del implantador de la facultad de físicas. Se presenta luego un completo estudio de la obtención por implantación de capas tipo n (por implantaciones de si y si/p), t...
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| Tipo de recurso: | tesis doctoral |
| Fecha de publicación: | 2002 |
| País: | España |
| Institución: | Universidad Complutense de Madrid (UCM) |
| Repositorio: | Docta Complutense |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:docta.ucm.es:20.500.14352/62854 |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.14352/62854 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Telecomunicaciones Electricidad 3325 Tecnología de las Telecomunicaciones 2202.03 Electricidad |
| Sumario: | La presente tesis muestra en primer lugar los sistemas de control diseñados y desarrollados para conseguir el perfecto funcionamiento del implantador de la facultad de físicas. Se presenta luego un completo estudio de la obtención por implantación de capas tipo n (por implantaciones de si y si/p), tipo p (con mg, mg/p o mg/ar) y capas de alta resistividad (por he y ti) en inp, tanto desde el punto de vista eléctrico (medidas de resistividad y efecto hall y de sims) como óptico (por fotoluminiscencia y espectroscopia raman). Finalmente, se describen las características en continua y alterna de uniones schottky y p-n, realizadas por implantación tanto en sustratos semiaislantes como en sustratos con conductividad tipo n o p. Las medidas en alterna incluyeron las técnicas de espectroscopia de admitancias y dlts, y pusieron de manifiesto la aparición de varios niveles profundos debidos al tratamiento de rta aplicado, asi como otros debidos a defectos introducidos por la implantación. |
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